NEXUS TAMR 物理蒸着システム

次世代データ ストレージ向けの応用が可能です。

Veeco NEXUS TAMR PVD システムでは、レーザーの導波路を構成する極低損失膜の形成が可能です。このシステムの特徴は、「金属」ターゲット上に形成された「誘電体」から酸化膜を加熱成膜できることにあります。この革新的な手法により、五酸化タンタル (Ta2O5) 膜および酸化アルミニウム (Al2O3)膜を高レートかつ低光学損失で成膜することが可能になっています。

Veeco TAMR PVD システムでは、生産実績のある高速反応性アルミナ プラットフォームおよび独自のプロセス制御を利用しています。

  • 比類のない信頼性と均一性が、プロセス収率の向上を支援。
  • 高処理量とより長いアップタイムにより、所有コストを削減。
  • NEXUS プラットフォームにより、イオンビーム蒸着、イオンビームエッチ、原子層堆積および反応スパッタリングなど、幅広いVeeco 技術と統合。