NEXUS IBE-420Si イオンビーム エッチング システム

多様なエネルギーと処理角度にわたって、優れた均一性

NEXUS® IBE-420Si™ イオンビームエッチングシステムは高いスライダー製造歩留まりと優れたイオンビームエッチングの均一性を実現します。

NEXUS IBE-420Si システムは多様なエネルギーと処理角度にわたって卓越した均一性を提供し、次世代の浮上面ステップ・キャビティ プロセッシングのエッチ深 さの制御に最適です。

  • 均一性に優れ、 エッチ深さ制御を改善しました。
  • 最高のスループットと小フットプリントによりCoO を低減できます。
  • 世界トップクラスの NEXUS ハードウェアとソフトウェアプラットフォームと簡単に ドック増設できます。
  • 新しいNEXUS420イオンソースにより、 エッチ均一性とプロセス再現性を改善します。
  • プロセスでの適性を確認済みの動作であれば、RF350 ソースの利用も可能です。
  • NEXUS 420 イオンソースにコスト効果的にフィールド・アップグレード可能なプラットフォーム です。

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