KRI/イオンソース
製品紹介
KRI社では、薄膜成膜、プラズマエッチング、材料加工など、各種プロセス向けに、最適なイオンソース、電子ビームソース、及びコントローラーを取り扱っております。
主なアプリケーション：
- イオンビームエッチング
- イオンビームスパッタリング
- イオンアシストデポジション
- 材料表面スムージング
- 材料表面活性化
製品ラインナップ：
- EHシリーズ：グリッドレスタイプイオンソース
- RFICPシリーズ：グリッドタイプイオンソース
- KDCシリーズ：グリッドタイプイオンソース
- エレクトロンソース
*写真は左からEHシリーズ、RFICPシリーズ、KDCシリーズ、エレクトロンソース
特長
グリッドレスタイプイオンソース（EHシリーズ）
ビーム形状：広範囲ダイバージェント（HWHM）、イオンエネルギー：30〜300eV、イオンビーム電流：0〜5A、エレクトロンソースとの組み合わせでカソードフィラメントを使用せず長時間プロセスにも対応可能
グリッドタイプイオンソース（RFICP、KDCシリーズ)
ビームサイズ：1〜30cm、ビーム形状：コリメート/ダイバージェント/フォーカス、RF/DC放電、イオンエネルギー：100〜1200eV、イオンビーム電流：0〜20A
