アプリケーション
拡散、酸化、PE-CVD、乾燥、焼成、他
- 用途 ›
- バッチ/インライン式拡散炉→拡散(POCl3他)
- バッチ式PE-CVD装置→PE-CVD(反射防止膜)
- 乾燥炉→電極ペーストの乾燥(Ag、Al)
- 高速焼成炉→電極ペーストの焼成(Ag、Al)
バッチ式拡散炉
高スループット、低コストオブオーナーシップを兼ね備えたセントロサーム社の拡散炉は、結晶系太陽電池の生産工程における高い要求にお応えできます。石英チューブにより、高エミッタ抵抗、高品質な拡散プロセスを実現し、効率の向上にもつながります。更に、大量生産向け装置においては、R&D用途への汎用も可能です。
- リン/ボロンの拡散(常圧/低圧)
- 酸化(ウェット、ドライ)
- 活性化アニール
- チューブ数:4〜5
- 汎用性に富んだ仕様
- 効率的なプロセスフローにより高スループット、ショートサイクル
- 高クリーン度
インライン式拡散炉
バッチ式拡散炉だけではなく、インライン式拡散炉も取り扱っております。インライン式の特長として、各プロセス間でのウェハー品質バラツキが少なく、連続的な生産、プロセスフローを確約致します。セントロサーム社のインライン式拡散炉は、チューブ式、もしくはベルト式の選択が可能です。
- リン拡散(POCl3)
- 活性化アニール
- 汎用性に富んだ仕様
- 効率的なプロセスフローにより高スループット、ショートサイクル
- 低コストオブオーナーシップ
- 高クリーン度
バッチ式PE-CVD装置
太陽電池製造工程におけるキーポイントである反射防止膜向けに、セントロサーム社のバッチ式PE-CVD装置(シリコンナイトライド堆積)を提案致します。高い汎用性、低コストオブオーナーシップ、短い装置ダウンタイムを実現しており、連続生産に最適です。その上、様々なプロセスに柔軟に対応可能であり、研究開発用途にもご使用いただけます。
- 装置ダウンタイムの大幅軽減(独自のダイレクトプラズマ方式により、定期的なチューブクリーニングが不要)
- 汎用性に富んだ仕様
- 効率的なプロセスフローにより高スループット、ショートサイクル
- 低コストオブオーナーシップ
- ダイレクトプラズマ方式により高効率化
- 水素パッシベーション対応
- 高クリーン度
高速焼成炉
セントロサーム社の焼成炉は、太陽電地の金属電極焼結において、シリコンとの良好な接続を可能にします。コンベア式焼成炉の特長として、高スループット、低コストオブオーナーシップがございます。高速ベルト方式と長時間焼成により、ショートサイクルタイムと有機物完全除去を実現致します。その上、高速乾燥機との連結により、通常、必要とされる搬送工程を省くことが可能です。
- ウェハサイズ:〜210(mm)
- マルチレーンによる高スループットを実現
- 乾燥炉との連結が可能
- ピーク領域の最適化が可能
- 多種多様なベルトタイプ
- 全自動モード搭載
乾燥炉
セントロサーム社の乾燥炉は、太陽電池の大量生産工程におけるウェハ上の金属電極乾燥向けに設計されました。コンベア式乾燥炉の特長として、スループットに秀でており、一方、モジュール設計により最適なドライプロセスを保証致します。オプションで、排出ガスクリーニング装置も選択できます。
- ウェハサイズ:〜210(mm)
- マルチレーンによる高スループットを実現
- 乾燥工程に合わせてシステムの最適化が可能
- 多種多様なベルトタイプ
- 全自動モード搭載